2009年7月22日
株式会社IHIシバウラ

「OHラジカル類・オゾン生成法と環境浄化・殺菌への応用」セミナーでの講演

強力な酸化力を持つオゾン・過酸化水素・紫外線等の活性種を用いたOHラジカル類の生成から、実際の環境浄化における応用に関するセミナーが、平成21年8月20日（木）新お茶の水 総評会館（東京都千代田区）において開催されます。

本セミナーでは、OHラジカルの特性・生成原理や飲料水処理・臭気物質の分解などをはじめとした水質浄化への応用のメカニズム、さらにオゾンについては、詳細な脱臭・空気浄化・殺菌への応用などの実例が紹介されます。

当社も、オゾン生成方式から実際の殺菌における注意事項や適用例（製品案内）を紹介する予定です。オゾンの殺菌原理やそのメカニズムから具体的な使用におけるポイント（濃度管理など）まで幅広い内容となっています。講演内容が聴講いただいた多くの方々のお役に立てれば幸いです。

当社の内容は以下のとおりです。
「オゾンの生成と殺菌におけるポイントと適用例」

興味をお持ちの方は、当社ホームページまでお問合せください。

◆開催日：2009年8月20日（木）
◆時　間：10時00分～16時40分
◆場　所：新お茶の水 総評会館（東京都千代田区） 4F 404室
　　　　　（JR御茶ノ水駅 徒歩7分、千代田線新御茶ノ水駅 徒歩０分）
◆セミナー内容
【１】OHラジカルの生成法と水質浄化への応用
【２】オゾンの消臭・空気浄化への応用
【３】オゾンの生成と殺菌におけるポイントと適用例（株式会社IHIシバウラ）
◆参加費：49,980円